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ラジカル付加反応の選択性制御と合成的展開:Giese反応の確立とスズヒドリド法の実装

最終更新日:2026-01-15

※本記事は、学術論文(Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1983, 1984)等に基づき、生成AIによって自動生成された解説記事です。

1. 結論:ラジカル反応における高い選択性と実用性の確立#

Bernd Gieseらによる一連の研究(1983-1984年)は、有機合成化学において長らく制御困難な「暴れ馬」と見なされていたラジカル反応に対し、当時としては例外的に高い選択性と実用的な合成手法を提示した。その主要な成果は以下の3点に集約される。

  1. 選択性決定因子の解明: ラジカル付加の速度と選択性は、生成するラジカルの熱力学的安定性が全く無関係であるわけではないものの、発熱反応に由来する早い遷移状態のため、その寄与は限定的であり、主として極性効果および立体効果によって支配されることが示された。
  2. FMO理論による合理化: フロンティア軌道理論(FMO理論)を、観測された反応選択性を事後的に合理化する有力な概念枠として導入した。これにより、求核的な性質を持つラジカルと電子不足アルケンの組み合わせにおける反応加速効果が定性的に説明された。
  3. 実用的実装としてのTin Method: Giese反応の実用性を大きく高めた実装として、 トリブチルスズヒドリド(nBu3SnHn-Bu_3SnH)を用いる いわゆる「Tin Method」が体系的に展開された。 スズヒドリド自体は先行研究においても用いられていたが、 GieseらはこれをラジカルC–C結合形成に適用し、 触媒量使用や基質一般性の観点から有機合成的手法として整理した点に 重要な意義がある。

2. 理論的背景:ラジカル反応の選択性はなぜ発現するのか#

2.1 遷移状態の性質と「生成物安定性」の影響#

かつての解釈では、ラジカル反応の位置選択性は「生成する中間体ラジカルの安定性(共鳴安定化など)」に依存すると説明されることがあった。しかし、Gieseらは実験事実に基づき、この要因は必ずしも支配的ではないと論じた。

ラジカルのアルケンへの付加反応は強い発熱反応であり、Hammondの仮説に基づけば、その遷移状態は反応座標の早い段階(Early Transition State)に位置すると考えられる。すなわち、遷移状態において結合の形成は初期段階にあり、生成物の安定性が反応速度に寄与する度合いは、遷移状態における反応剤間の立体反発極性相互作用と比較して限定的であると結論付けられた。

  1. FMO理論的観点による合理化:

Gieseは、ラジカルとアルケンの反応性を支配する要因として、 SOMOとアルケンのHOMOまたはLUMOとの相互作用に言及し、 観測された選択性を定性的に説明した。 これらの議論は、後にフロンティア軌道理論(FMO理論)の枠組みで 整理・一般化されることとなった。

  • 求核的ラジカル(Nucleophilic Radicals): 多くのアルキルラジカルのように相対的に高いエネルギー準位のSOMO(Singly Occupied Molecular Orbital)を持つラジカル種は、求核的な挙動を示す傾向がある。これらは、電子求引基によってエネルギー準位が低下したアルケンのLUMO(Lowest Unoccupied Molecular Orbital)と強く相互作用し、反応の活性化エネルギーを低下させる。
  • 求電子的ラジカル(Electrophilic Radicals): 逆に、トリフルオロメチルラジカルなどの電子不足ラジカルはSOMOの準位が低く、アルケンのHOMO(Highest Occupied Molecular Orbital)との相互作用が支配的となる。

この理論的枠組みにより、特定のアルキルラジカルが電子不足アルケン(アクリル酸エステルやアクリロニトリル等)に対して選択的に付加するという実験事実が、SOMO-LUMO相互作用の観点から合理的に説明された。


3. 立体効果と位置選択性の起源#

ラジカル付加の選択性において、立体効果は極性効果と並んで重要な因子である。Gieseは、アルケンの置換基位置による立体効果の違いを詳細に解析した。

3.1 α\alpha-効果とβ\beta-効果の非対称性#

  • β\beta-効果(Polar Effects Dominate): ラジカルが攻撃しない側の炭素(β\beta位)上の置換基(ZZ)は、反応中心から距離があるため立体的な影響は比較的小さい。その代わり、電子的な効果(Hammettの置換基定数σ\sigmaとの相関)が反応速度に強く影響する。
  • α\alpha-効果(Steric Effects Dominate): ラジカルが攻撃する炭素(α\alpha位)上の置換基(YY)は、接近するラジカルと直接的な立体反発を生じる。実験データにおいて、α\alpha位に嵩高い置換基が存在すると反応速度は低下し、その影響はTaftの立体パラメータ(EsE_s)と相関を示すことが確認されている。

3.2 位置選択性(Regioselectivity)の決定#

ラジカル付加が一般に置換基の少ない炭素原子上で起こる(Anti-Markovnikov配向)傾向は、生成ラジカルの安定性のみならず、主にこの大きなα\alpha-立体効果に起因すると説明される。遷移状態が非対称であり、結合生成が進行している炭素原子(α\alpha位)周辺の立体環境が反応性を大きく左右するためである。


4. 実験的手法:Tin Method(スズ法)の実装#

1984年の報告において、Gieseらは上記の理論的知見を背景に、トリブチルスズヒドリドを用いたC-C結合形成法(Tin Method)をラジカル付加の実用的なツールとして洗練させた。

4.1 基本反応サイクルと触媒化(Catalytic Tin Method)#

基本となる反応は、ラジカル連鎖機構により進行する。

  1. ハロゲン引き抜き: nBu3Snn-Bu_3Sn^{\bullet} がハロゲン化アルキル(RXRX)からハロゲンを引き抜き、アルキルラジカル(RR^{\bullet})を生成。
  2. 付加: RR^{\bullet} がアルケンに付加し、C-C結合を形成。
  3. 水素移動: アダクトラジカルが nBu3SnHn-Bu_3SnH から水素を引き抜き、生成物を与えつつスズラジカルを再生。

有機スズ化合物の毒性と除去の困難さは課題であったが、Gieseらは**触媒量のスズ化合物(nBu3SnCln-Bu_3SnClと還元剤としての水素化ホウ素ナトリウム(NaBH4NaBH_4)**を共存させる系を提示した。この系では、反応中で消費されたスズヒドリドが系内で再生されるため、スズの使用量を低減(例えば0.2当量)できる。報告された条件(エタノール溶媒、ヨウ化アルキル使用)においては、80%を超える収率で付加体が得られる事例も確認されている。

4.2 アルコールからの炭素鎖伸長(Barton法の応用)#

さらに、ハロゲン化物だけでなくアルコールを出発物質とする手法も検討された。アルコールをチオカルボニル誘導体(キサントゲン酸エステルやチオウレタン等)に変換し、これをスズヒドリドで処理することで、Barton-McCombie脱酸素反応と同様の機構でラジカルを発生させ、C-C結合形成に利用できることが示唆された。これは、天然物に豊富な水酸基を足掛かりとして炭素鎖を伸長する手法の一つとなり得る。


5. 立体選択的合成への応用例#

ラジカル反応は平面的な中間体を経由するため立体制御が課題となる場合があるが、基質の立体環境によっては高い選択性が発現することがGieseらの実験で示された。

  • 五員環(フラノース)系: ガラクトフラノース誘導体を用いた実験では、立体的に遮蔽の少ないexo面からアクリロニトリルが優先的に付加し、主要なジアステレオマーを与える結果が得られた。
  • 六員環(ピラノース)系: グルコピラノース環上のアノマーラジカル(C1位)においては、一般的な立体障害則(エクアトリアル優先)とは異なり、立体電子効果(アノマー効果等)の影響によりアキシアル位(α面)からの炭素鎖導入が優先して進行し、主にα-C-グリコシドを与える結果が得られた。

これらの結果は、基質の立体配座と立体電子効果を考慮することで、ラジカル付加の立体化学がある程度予測・設計可能であることを示唆している。


6. 既存手法との比較および限界#

6.1 マイケル付加(イオン反応)との比較#

電子不足アルケンへの炭素鎖導入という点では、カルバニオン(エノラート等)を用いるMichael付加と類似するが、Giese反応には以下の特徴がある。

  • 中性・温和な条件: 強塩基や酸を用いないため、条件によっては保護基の脱着や副反応を回避できる可能性がある。
  • 官能基許容性(Chemoselectivity): 水酸基、カルボニル基、ハロゲンなどが分子内に共存していても、それらと反応せずに炭素ラジカルがアルケンと反応する高い化学選択性を示す場合が多い。

6.2 限界と注意点#

  • 電子豊富なアルケンへの適用性: 本手法は一般に、求核的なラジカルと電子不足アルケンの相互作用を利用しているため、通常の非活性アルケンや電子豊富なアルケンに対しては反応速度が遅く、適用が難しい場合がある。
  • 還元の競合: 反応系には水素供与体(スズヒドリド)が存在するため、ラジカルがアルケンに付加する前に水素を引き抜いてしまう「直接還元」が競合する可能性がある。これを抑制するためには、アルケンの過剰使用や、付加速度の速い電子不足アルケンの選択が必要となる場合がある。

7. 参考文献#

  • [1] B. Giese, “Formation of CC Bonds by Addition of Free Radicals to Alkenes”, Angew. Chem. Int. Ed. Engl., 1983, 22, 753-764.
  • [2] B. Giese, J. A. González-Gómez, T. Witzel, “The Scope of Radical CC-Coupling by the ‘Tin Method’”, Angew. Chem. Int. Ed. Engl., 1984, 23, 69-70.
ラジカル付加反応の選択性制御と合成的展開:Giese反応の確立とスズヒドリド法の実装
https://ss0832.github.io/posts/20260115_orgchem_giese_radical_addition/
Author
ss0832
Published at
2026-01-15
License
CC BY-NC-SA 4.0

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